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高真空磁控离子溅射仪采购项目

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信息时间:
2024-09-19
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项目名称 高真空磁控离子溅射仪采购项目
项目编号 SUSTech-JC-2024-01026
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
采购方式 公开竞采
公告开始时间 2024-09-19 11:08:18
公告结束时间 2024-09-26 11:08:18
预算(元) 260000.00
项目预算是否含税 国产含税
备注



序号 名称 数量 单位

1

高真空磁控离子溅射仪(核心货物)

1

是否接受进口

拒绝进口

品牌

格微、Labtime、CG-tech

型号

GVC-2000TD、CC220GT、CG-Tech-800

技术规格及参数

1.7英寸触摸式液晶显示屏,分辨率为800×480,全中文操作界面,全数字显示。
可设定:(1)溅射电流/溅射功率;(2)溅射时间;(3)靶材种类等;
可显示:(1)溅射电流/溅射功率;(2)溅射剩余时间;(3)工作真空度;(4)靶材累计使用时间;(5)设备累计使用时间;(6)分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压;(7)当前使用靶材种类;
2.溅射电流:5-200mA连续可调,最小步长为1mA;
3.溅射功率:0-300W连续可调,最小步长5W;
4.溅射时长:1-999s连续可调,最小步长1s;
5.溅射靶材:Φ57mm;
6.可用溅射靶材:系统内置24常用金属靶材的溅射参数和部分无机非金属溅射参数,可以一键调用,包括扫描电镜常用的金、铂、钨、铬等靶材和硅、碲等非金属靶材以及ITO、AZO、PTFE等靶材;
7.真空室采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸约为φ200×130mm;
8.可容纳最大样品杯直径为φ120mm;
9.高真空泵:涡轮分子泵,抽速为90L/s;
10.低真空泵:旋片式真空泵,抽速为1L/s;
11.真空规管:进口复合规,量程为1E-3Pa到1E5Pa;
12.系统工作真空:0.1-2pa(根据靶材不同,工作真空不同);
13.样品台旋转:4-20rpm可调;
14.配备冷水机,功率300W;
15.选配1:膜厚监控组件,可以实时显示当前镀膜厚度,并在到达设定值时自动停止溅射过程,膜厚设定范围1-999nm连续可调,显示精度0.01nm;
16.选配2:样品台加热组件,可以对样品进行加热,提高膜层附着力,加热温度室温~200℃连续可调。
17.报价包含铟,金,银,铜,铝,ITO,铂靶,氧化锌、AZO、三氧化钨、氧化钴等靶材,工具辅材过渡接头等全配齐,用户实验室在具备高纯氩气(纯度 4N 及以上、含减压阀)时即可直接使用;

质保期

18个月

售后要求

货物及其随机配件提供18个月免费保修,货物安装调试完毕并经10个工作日试运行完成后方可签署无保留意见的验收报告,保修期自货物验收合格之日起计算。保修期内,货物出现损坏或故障,应在接到维修通知后48小时内派员上门现场维护,并在72小时内解决问题,如在规定时间内不能解决设备故障,应提供相同档次、功能的设备给招标人代用。若中标人不能按照上述要求进行维修,导致设备故障维修不及时,且无法提供代用设备的,按维修时间每超过一天赔偿合同总金额千分之三计算或按实际损失赔偿

付款方式 合同生效并收到相******学校确认无质量问题后支付30%的货款。
交货期 ******学校要求提前5天(自然日)通知送货
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